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        EUV光刻機(jī)要被棄用了?

        發(fā)布時間:2024-06-13
        對于現(xiàn)階段而言,想要完成芯片的制造,肯定是離不開光刻機(jī)的,特別是7nm以下的芯片,沒有asml的euv光刻機(jī),根本制造不出來!
        asml作為的光刻機(jī)廠商,其產(chǎn)品也長期處于供不應(yīng)求的狀態(tài),誰能夠優(yōu)先獲取euv光刻機(jī),就能夠占據(jù)更多的,臺積電能夠得到過半光刻機(jī)的產(chǎn)能,就是得益于其股東的身份。
        目前能夠獲得euv光刻機(jī)的廠商,除了臺積電、三星以及英特爾之外,幾乎就沒了,中芯國際早在三年前就訂購了一臺,至今都沒有任何出貨的消息。
        受到相關(guān)限制的影響,asml公司的出貨出現(xiàn)了問題,不用說先進(jìn)的euv光刻機(jī),就算是已經(jīng)被淘汰的duv光刻機(jī),想要進(jìn)入中國市場都很難。
        也正是因?yàn)橄胭I都買不到,引起了很多芯片廠商的不滿,外加上相關(guān)限制導(dǎo)致的缺芯狀態(tài),也加速了廠商選擇其它路徑生產(chǎn)芯片的進(jìn)程,一旦新技術(shù)被大量應(yīng)用,euv光刻機(jī)就很有可能被淘汰!
        芯片技術(shù)研發(fā)化 此前各個國家太過于相信“科技化”,直到相關(guān)限制的到來,才*清醒了過來,美試圖重新掌控半導(dǎo)體領(lǐng)域的計(jì)劃,被所有國家給直接否決了,此前英偉達(dá)收購arm失敗,就很好的證實(shí)了強(qiáng)硬的態(tài)度。
        日企佳能作為光刻機(jī)的鼻祖,但在無情的打壓之下,只好放棄研發(fā),但其技術(shù)底蘊(yùn)還是存在的,目前已經(jīng)官宣重新開啟光刻機(jī)的研發(fā),并且還和鎧俠半導(dǎo)體展開了合作,共同研發(fā)了nil工藝。
        經(jīng)過相關(guān)實(shí)驗(yàn)論證,nil工藝可以在不使用euv光刻機(jī)的情況下,至少能夠保證實(shí)現(xiàn)5nm的芯片制造,預(yù)計(jì)在2025年就能夠?qū)崿F(xiàn)量產(chǎn),相比于用euv光刻機(jī)制造芯片,在設(shè)備成本上至少降低了90%,同時還能夠節(jié)省大量的電力資源。
        而臺積電也開始發(fā)力了,已經(jīng)聯(lián)合英特爾、三星、蘋果等等廠商,聯(lián)合成立了“小芯片聯(lián)盟”,把重心放在了先進(jìn)的封裝工藝上,而“雙芯疊加”成為了重要的一個方向,把兩顆不那么先進(jìn)的芯片疊加在一起,從而實(shí)現(xiàn)性能的大幅度提升。
        目前該項(xiàng)工藝已經(jīng)在蘋果身上試驗(yàn)成功,推出的m1 ultra芯片,就是由兩顆m1 max結(jié)合而來,在性能上得到了大大的提升,也更加證實(shí)了這項(xiàng)技術(shù)的可行性,amd目前也推出了3d封裝工藝,同樣也能夠?qū)崿F(xiàn)性能的提升。
        后續(xù)將會有越來越多的芯片廠商加入這個行列當(dāng)中,畢竟就算euv光刻機(jī)能夠出貨,動輒上億美元的單臺售價(jià),可不是每個企業(yè)都能承擔(dān)得起的,一旦有了全新的技術(shù)工藝可替代,euv光刻機(jī)這種重成本模式,肯定是要被淘汰的。
        光刻機(jī)自主化研發(fā)全力啟動 asml不僅對中國市場停止出貨,還加入到了中斷俄市場合作的行列當(dāng)中,這也讓很多客戶感受到了一定的危機(jī),這絲毫沒有國際信譽(yù)度可言,目前諸多國家都開啟了光刻機(jī)的自主研發(fā)。
        為了盡快解決芯片供應(yīng)問題,華為專門成立了“哈勃投資”,用于投資那些有潛力的半導(dǎo)體企業(yè),解決在終端制造方面的困境,而光刻機(jī)技術(shù)就是首要突破的,目前在中科院以及各大高校研究所的助力之下,很快就會有相應(yīng)的成就了。
        受到摩爾定律的影響,asml的技術(shù)研發(fā)進(jìn)度也被拖長,而且超過90%的技術(shù)依賴進(jìn)口,根本不可能實(shí)現(xiàn)*自主化,這也是光刻機(jī)售價(jià)居高不下的原因,也正因?yàn)槭褂昧舜罅康暮兰夹g(shù),才導(dǎo)致了在自由出貨上受限制。
        在日企佳能等等老牌光刻機(jī)廠商,以及俄技術(shù)學(xué)院的加入后,打破asml的技術(shù)壟斷,已經(jīng)存在很大的可能性了。
        摩爾定律極限的連鎖反應(yīng)逐步到來,在7nm過渡到5nm的過程中,不僅導(dǎo)致芯片的成本大幅度上升,還出現(xiàn)了類似功耗高、發(fā)熱嚴(yán)重等問題,而且在性能的提升方面也極其有限,大有點(diǎn)得不償失的感覺。
        顯然傳統(tǒng)的利用光刻機(jī)制造芯片的模式,很快就會走到盡頭了,畢竟先進(jìn)的封裝測試工藝已經(jīng)逐步在推進(jìn)了,已經(jīng)在市場上取得了初步的成效,正如asml此前自己所預(yù)料的那樣,打壓只會加速被限制國家和企業(yè)的發(fā)展。
        目前越來越多的國家參與到了技術(shù)自主化當(dāng)中,asml后續(xù)的優(yōu)勢將會被逐步淡化,如果*的話,在利潤上也得不到很好的保證,反而會讓企業(yè)陷入更大的困境當(dāng)中,所以才會說euv光刻機(jī)逐步被淘汰,對此你們是怎么看的呢?
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