uv光解凈化設(shè)備是一種能高效快速去除揮發(fā)性有機(jī)物、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇、苯等各種惡臭氣體的環(huán)保設(shè)備。脫臭效果較好，脫臭效果大大超過國(guó)家頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(gb14554-93)。有機(jī)廢氣氣體處用排風(fēng)設(shè)備輸入到uv光催化除臭設(shè)備后，運(yùn)用高能uv紫外線光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng),使惡臭氣體物質(zhì)其降解化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。
uv光解凈化設(shè)備的技術(shù)原理：
本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧uv紫外線光束照射惡臭氣體和tio2光催化，催化裂解惡臭氣體如：氮、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物h2s、voc類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如co2、h2o等。
tio2光催化的催化化性在很大程度上影響光催光反應(yīng)速率，而tio2光催光活性主要受tio2的晶型和粒徑的影響。銳鈦型tio2的催化活性高。隨著粒徑的減少，電子與空穴簡(jiǎn)單復(fù)合的概率降低，光催化活性增大。另外，孔隙率、平均孔徑、粒子表面狀態(tài)，純度等對(duì)其光催化活性也均有一定影響。為了提高光降解效率，對(duì)tio2光催化劑進(jìn)化改性，如研制納米tio2，制備tio2的復(fù)合半導(dǎo)體，金屬離子摻雜、染料光敏化等。也可以采用各種先進(jìn)的手段制備tio2催化劑，以提高光催化劑的活性。
利用高能臭氧uv紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。uv+o2→o一+o*(活性氧)o+o2→o3(臭氧)，臭氧對(duì)有機(jī)物具有較強(qiáng)的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有較好的清除效果。
利用高能uv光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(dna)，再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，*達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。
關(guān)鍵詞：除臭設(shè)備 催化劑