gold
黃金靶au
sem鍍膜中使用泛的一種靶材，非常適合于冷態(tài)濺射的鍍膜儀（如108系列）使用，對(duì)熱敏性樣品不會(huì)產(chǎn)生傷害。但在高倍sem下，可以看到金屬顆粒。
gold/palladium
金鈀合金靶au/pd
濺射率比純黃金靶的低. 在蒸發(fā)鍍膜時(shí)，顆粒比純au的要小。不是很適合熱敏性樣品鍍膜和eds分析鍍膜（由于有兩個(gè)鍍膜材料峰值）。
palladium
鈀靶pd
在低放大倍數(shù)時(shí)，可做低成本鍍膜材料使用。較低的se信號(hào).
platinum
鉑靶pt
金屬顆粒細(xì)，但比au的濺射率要低。容易產(chǎn)生應(yīng)力斷裂現(xiàn)象。價(jià)格貴，se產(chǎn)率高。適合fesem
platinum/palladium
鉑鈀合金pt/pd
顆粒大小和pt差不多，但應(yīng)力斷裂的敏感度要低些。非常適合fesem.
silver
銀靶ag
低放大倍數(shù)時(shí)的一種低成本靶材. 顆粒比au大，適合臺(tái)式sem使用。低se產(chǎn)率。如果樣品沒有在真空環(huán)境下保存，則會(huì)有氧化變色。適合eds使用。
chromium
鉻靶cr
非常細(xì)的顆粒，適合fesem。為防止氧化，需要在如208hr等高真空環(huán)境下鍍膜。鍍膜后的樣品需要存放在高真空環(huán)境中。非常適合生物樣品的be成像。濺射產(chǎn)率低。
iridium
銥靶ir
非常細(xì)的顆粒，對(duì)于fesem樣品來說，是一種很好的全能性鍍膜材料。需要在208hr等高真空鍍膜儀上鍍膜，濺射速率慢。
tungsten
鎢靶w
可替代cr，非常細(xì)的顆粒，但氧化速度非常快。低濺射產(chǎn)率。
nickel
鎳靶ni
可用在eds上，不適合se成像，適合be成像。低濺射產(chǎn)率。鍍膜易氧化。
copper
銅靶cu
可用在eds上，適合中低放大倍數(shù)sem使用。