我國是消費電子產(chǎn)品的生產(chǎn)國、出口國和消費國，在國家政策的扶持下，我國眾多電子企業(yè)紛紛開發(fā)硅晶圓研發(fā)新工藝，這也標志著我國硅晶圓產(chǎn)業(yè)有望進入黃金期。單晶硅是一種半導體材料，其導電能力介于導體和絕緣體之間，主要應用于太陽能電池行業(yè)，是在現(xiàn)代電子產(chǎn)品的基礎(chǔ)材料之一。但硅晶圓對純度要求*，因此對于水質(zhì)也有著超高的要求，超純水設(shè)備生產(chǎn)的水質(zhì)可滿足行業(yè)用水需求。
超純水設(shè)備一般采用預處理+反滲透+edi(混床)組合形式，具有使用壽命長、技術(shù)先進、可自我保護、高效低耗能、運行成本低，水利用率高、體較小、維修量小，運行的時間長久等優(yōu)勢從根本上提升出水水質(zhì)，并且延長工作周期，幫助企業(yè)實現(xiàn)穩(wěn)定的生產(chǎn)，其工藝流程如下：
原水進入超純水系統(tǒng)后，主要部分流入膜元件內(nèi)，另一部分沿模板外側(cè)流動，以洗去透出膜外的離子。接下來膜元件截留下水中的溶存離子，被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運動，陽離子向負極方向運動。之后陽離子透過陽離子膜被排出，陰離子透過陰離子膜被排出，被濃縮的離子從廢水流路中排出，最后去離子水從膜內(nèi)流出。
單晶硅用超純水設(shè)備在長時間工作后，如果不定期進行維護，就很容易被污染，今天介紹這篇單晶硅用超純水設(shè)備的維護方法，建議您全文背誦。
1、將專用清洗液與純凈水在清洗藥箱內(nèi)混合。
2、用清洗泵低流量將清洗液以低流速、低壓力打至反滲透系統(tǒng)，并排走原水，防止清洗液稀釋。
3、保持設(shè)備溫度穩(wěn)定，用清洗泵將清洗液在系統(tǒng)中循環(huán)。
4、清洗液在設(shè)備內(nèi)浸泡一小時即可，污染較嚴重的反滲透膜可進行更長時間的浸泡清洗。
5、用清洗泵大流量打入清洗液30—60分鐘，使反滲透膜上被洗掉的污染物隨高流速水沖走。
6、用清水將清洗液沖去。設(shè)備沖洗后的清水需要保證ph6.5-7.5之間。
萊特萊德超純水設(shè)備采用曲線微導力技術(shù)，通過先進的分離技術(shù)，將水中的離子與水分離。降低水中離子的含量，達到凈化水質(zhì)及降低水中離子的目的。結(jié)合預處理系統(tǒng)(sanqcar)、加藥系統(tǒng)等前處理系統(tǒng)，可實現(xiàn)超純水的預脫鹽目的，其出水滿足芯片生產(chǎn)用水的相關(guān)標準，降低企業(yè)生產(chǎn)的風險和成本。
萊特萊德超純水設(shè)備在設(shè)計上采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級ro+edi+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后出水電阻率達到18 mω.cm以上。設(shè)備內(nèi)部還安裝有反滲透預脫鹽技術(shù)，再次從根本上行保障了設(shè)備的出水水質(zhì)，與此同時，edi處理裝置廢水產(chǎn)出量少，不會對環(huán)境造成污染，有非常高的環(huán)境效益、經(jīng)濟效益，其發(fā)展前景廣闊。
關(guān)鍵詞：電池 超純水設(shè)備 純水設(shè)備 反滲透膜 加藥系統(tǒng)