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        概述CRF plasma工作溫度和產(chǎn)生等離子的必要條件

        發(fā)布時(shí)間:2024-06-03
        概述crf plasma工作溫度和產(chǎn)生等離子的必要條件:
        一、crf plasma工作溫度
        盡管經(jīng)過(guò)加工處理原料的幾秒鐘后,其工作溫度在60°-75°之間,但是這一數(shù)據(jù)資料是根據(jù)噴槍距離原料15毫米,輸出功率500w,與120mm的三軸速度相匹配。不過(guò)輸出功率,接觸時(shí)間段,加工處理的相對(duì)高度都是會(huì)對(duì)工作溫度有一定的直接影響。須要特別注意的是,大氣plasma噴槍作業(yè)時(shí)噴出的火焰分為內(nèi)火焰和外火焰。我們清洗的時(shí)候基本都是用外火焰清洗。內(nèi)火焰在噴嘴里,從表面看不見??墒羌偃缭趪姵鰜?lái)“火焰”的情況下下長(zhǎng)一段時(shí)間朝著某一個(gè)點(diǎn)不運(yùn)作進(jìn)行加工處理非常容易對(duì)表層造成燒灼。因此大氣低溫plasma的工作溫度要在實(shí)際的工作狀況下才可以測(cè)得具體的數(shù)據(jù)。
        而真空型plasma就沒這么繁雜,按主機(jī)電源輸出功率區(qū)分,40khz和13.56兆赫茲為例:通常情況下情況下下原材料放進(jìn)腔體內(nèi)作業(yè),輸出功率為4okhz通常情況下工作溫度為65°之下,再者機(jī)器里邊配有強(qiáng)冷風(fēng)扇,加工處理時(shí)間段不長(zhǎng)的話,原材料外表溫度都是會(huì)跟室內(nèi)溫度相同。輸出功率為13.56兆赫茲的就會(huì)更低,通常情況下情況下是30°之下。
        因此加工處理某些遇熱易產(chǎn)生變形的原材料,低溫真空型plasma的是在再適宜不過(guò)了。
        二、crf plasma中等離子造成必要條件
        這些相對(duì)比較直接的就可以看得出,大氣型取決于連接的氣體,空氣壓力要做到0.2mpa之間才還可以造成離子。而真空型則取決于真空泵,造成離子前,即便不連接任何的外接的氣體,要將內(nèi)腔里邊的真空度抽到25pa之下才可以造成離子。
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