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        石墨烯高剪切液相機(jī)械剝離法

        發(fā)布時(shí)間:2024-05-31
        石墨烯高剪切液相機(jī)械剝離法
        自石墨烯被發(fā)現(xiàn)以來(lái),科研人員為能批量穩(wěn)定地制備石墨烯付出了巨大努力并取得了階段性成果。
        石墨烯制備方法主要有:
        (1)晶體外延生長(zhǎng)法,該法是在*的真空度下將單晶碳化硅襯底加熱至1200~1600℃,使襯底中的硅原子升華析出,過(guò)量的碳原子留在基底并重構(gòu)生成石墨烯,這是目前*的新加坡納米材料公司有可能實(shí)現(xiàn)工業(yè)化的方法之一;
        (2)化學(xué)氣相沉積法(cvd),該法將甲烷等含碳化合物在基底上進(jìn)行高溫分解而重構(gòu)生成石墨烯,然后除去金屬基底得到石墨烯;
        (3)化學(xué)氧化-還原法,目前以該法制備
        氧化石墨主要有3種途徑,即brodie法、staudenmaier法及hummers法。前兩者會(huì)產(chǎn)生clo2氣體,hummers氧化還原法反應(yīng)時(shí)間短,產(chǎn)品純化步驟簡(jiǎn)單,因此目前的制備方法多基于hummers氧化還原法。
        hummers氧化還原法制備過(guò)程概括為:
        ①向強(qiáng)酸和強(qiáng)氧化劑混合液加入石墨,反應(yīng)得到氧化石墨;
        ②借助外力剝離得到氧化石墨烯(go);
        ③通過(guò)化學(xué)還原、熱還原等方法將氧化石墨烯還原得到還原的氧化石墨烯(rgo)。
        上述3種制備方法中,使用cvd法制得的大面積石墨烯片層可以直接覆蓋在金屬表面用作防腐、保護(hù)涂層,而化學(xué)氧化-還原法則在涂料領(lǐng)域中更為常用。這是由于在氧化的過(guò)程中,將活性含氧基團(tuán)引入到石墨烯上,為以后的功能化改性提供了活性反應(yīng)位點(diǎn),豐富了功能化改性的手段,從而有效提高改性go與溶劑、聚合物的相容性。
        石墨烯漿料的制備方法
        (1)超聲波分散設(shè)備:非常適合實(shí)驗(yàn)室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散石墨烯,用于中、高粘度介質(zhì)時(shí)會(huì)受到限制,而且處理量比較小,不適合規(guī)模生產(chǎn)
        (2)砂磨機(jī):能夠均勻的細(xì)化石墨烯的粒徑,但是工作時(shí)間長(zhǎng),而且容易破壞石墨烯的原子機(jī)構(gòu),耗材更換成本高,
        (3)采用昊星多功能膠體磨(新型管道磨)管線式研磨機(jī)石墨烯泵型于先把抱團(tuán)粒徑打開(kāi),還原物料的原始粒徑,再把物料進(jìn)步細(xì)化剝離,可以的得到理想的石墨烯漿料。
        管線式研磨機(jī)石墨烯泵型石墨烯加工分散、研磨的原理:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
        分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹(shù)脂等包覆住,以便達(dá)到顆粒*被分離(separating)、潤(rùn)濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。
        石墨烯漿料分散技術(shù)三要素
        二、分散劑用量*
        三、石墨烯 水分散劑概述
        四、超聲波分散設(shè)備使用建議及分散實(shí)例
        五、研磨分散設(shè)備使用建議
        石墨烯 分散技術(shù)三要素:分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備
        昊星多功能研磨機(jī)石墨烯泵是由研磨機(jī) 和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
        具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
        第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出理解成品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
        石墨烯研磨設(shè)備采用發(fā)明和*工藝制造的高速剪切、分散、解聚、破碎、研磨的技術(shù),通過(guò)電動(dòng)機(jī)傳動(dòng)來(lái)驅(qū)動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配cm+8sf,定轉(zhuǎn)子間隙在0.03-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。 公司有樣機(jī)可供客戶實(shí)驗(yàn),歡迎廣大客戶來(lái)我司參觀指導(dǎo)!我公司有著豐富的石墨烯研磨經(jīng)驗(yàn),跟深圳、山東利特、常州金馬、寧波墨烯、上海超碳、北京旭碳、宜興南工烯環(huán)、以及貴州、濰坊、無(wú)錫、長(zhǎng)春、廈門、東莞等地大型鋰電石墨烯、碳納米管生產(chǎn)企業(yè)有著深度合作。
        xmd2000進(jìn)口超高剪切研磨分散機(jī)
        研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
        級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
        第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
        以下為型號(hào)表供參考:
        型號(hào)
        標(biāo)準(zhǔn)流量
        l/h
        輸出轉(zhuǎn)速
        rpm
        標(biāo)準(zhǔn)線速度
        m/s
        馬達(dá)功率
        kw
        進(jìn)口尺寸
        出口尺寸
        xmd2000/4
        400
        18000
        50
        4
        dn25
        dn15
        xmd2000/5
        1500
        10500
        50
        11
        dn40
        dn32
        xmd2000/10
        4000
        7200
        50
        22
        dn80
        dn65
        xmd2000/20
        10000
        4900
        50
        45
        dn80
        dn65
        xmd2000/30
        20000
        2850
        50
        90
        dn150
        dn125
        xmd2000/50
        60000
        1100
        50
        160
        dn200
        dn150
        石墨烯高剪切液相機(jī)械剝離法
        上一個(gè):抗原肽的設(shè)計(jì)和應(yīng)用
        下一個(gè):厚聲1206W4F274KT5E電阻

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