長春某研究所在制作閃耀羅蘭光柵的研究中采用伯東hakuto離子蝕刻機10ibe,制造出的閃耀羅蘭光柵比其他工藝制造的光柵產(chǎn)品整體衍射效率高25%,實現(xiàn)高衍射效率閃耀羅蘭光柵制作,且工藝可控、穩(wěn)定,所制作的閃耀羅蘭光柵衍射效率高于市場同類產(chǎn)品.
hakuto離子蝕刻機10ibe技術(shù)參數(shù):
基板尺寸
< ф8 x 1wfr
樣品臺
直接冷卻（水冷）0-90度旋轉(zhuǎn)
離子源
16cm考夫曼離子源
均勻性
±5% for 4”ф
硅片刻蝕率
20 nm/min
溫度
<100
hakuto離子刻蝕機10ibe離子源是配伯東公司代理美國考夫曼博士創(chuàng)立的kri考夫曼公司的考夫曼離子源kdc 160
伯東美國kri考夫曼離子源kdc160技術(shù)參數(shù)：
離子源型號
離子源kdc 160
discharge
dc熱離子
離子束流
>650 ma
離子動能
100-1200 v
柵極直徑
16 cm φ
離子束
聚焦,平行,散射
流量
2-30 sccm
通氣
ar, kr, xe, o2, n2, h2,其他
典型壓力
< 0.5m torr
中和器
燈絲
hakuto離子刻蝕機10ibe真空腔采用pfeiffer渦輪分子泵hipace 700,可抽的真空度< 1 · 10-7hpa,良好的保持真空腔的真空度.
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上海伯東:羅先生