光學(xué)平臺廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、精密機(jī)械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和無損檢測等領(lǐng)域，以及其他機(jī)械行業(yè)的精密試驗(yàn)儀器、設(shè)備振動隔離的關(guān)鍵裝置中。
光學(xué)平臺最重要的特性為其共振頻率。共振頻率和振幅是負(fù)相關(guān)的，因此共振頻率應(yīng)盡可能地增大，從而將振動強(qiáng)度最小化。光學(xué)平臺會在一個(gè)特定的頻率范圍內(nèi)發(fā)生振動。為了改善性能，每種尺寸的平臺阻尼效果都需要進(jìn)行優(yōu)化。
光學(xué)平臺阻尼需要進(jìn)行各種測試，對其厚度/面積的比值進(jìn)行優(yōu)化。更大面積的平臺（邊長至少為10英尺或3米）具有厚度為12.2英寸（310毫米）的標(biāo)準(zhǔn)厚度，這樣可以提高穩(wěn)定性。對于更小面積的平臺，厚度可以是8.3英寸（210毫米）或12.2英寸（310毫米），也可定制更大尺寸。