光刻機(jī)是制造芯片的重要設(shè)備，是半導(dǎo)體設(shè)備三大件(光刻機(jī)、刻蝕機(jī)設(shè)備、氣相沉積設(shè)備)之一。它通過在硅片上投射光源，將芯片設(shè)計(jì)中的圖案按照一定比例縮小并轉(zhuǎn)移到硅片上，形成微小的電路結(jié)構(gòu)，從而制造出電子設(shè)備的核心部件。所以也被譽(yù)為是半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的“明珠”。
光刻機(jī)的制造技術(shù)非常復(fù)雜，需要精密的光學(xué)系統(tǒng)、高精度的機(jī)械結(jié)構(gòu)以及精密的控制系統(tǒng)。因此，在半導(dǎo)體工業(yè)制造領(lǐng)域中，光刻機(jī)的制造門檻很高。在全球范圍內(nèi)，只有少數(shù)幾家公司能夠生產(chǎn)高精度的光刻機(jī)，比如荷蘭的asml、日本的canon和nikon等。
無論是芯片研發(fā)還是生產(chǎn)，都離不開高精度的光刻機(jī)，所以在半導(dǎo)體設(shè)備中，光刻機(jī)的銷售額僅次于蝕刻機(jī)。根據(jù)semi數(shù)據(jù)顯示，2022年，全球光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模232.3億美元，在半導(dǎo)體設(shè)備中的市場(chǎng)份額提升至23%。asml預(yù)測(cè)，到2023年，全球光刻市場(chǎng)將突破240億美元。
光刻機(jī)的精確度和性能是衡量芯片制造成功的關(guān)鍵。目前，我國的國產(chǎn)光刻機(jī)最先進(jìn)型號(hào)為ssa600/20，能夠?qū)崿F(xiàn)90nm的工藝，但可通過二次、三次曝光實(shí)現(xiàn)更小的制程。數(shù)據(jù)顯示，2022年，我國全年進(jìn)口的集成電路件數(shù)占據(jù)全球市場(chǎng)的三分之二，市場(chǎng)金額高達(dá)4000億美元，占據(jù)amsl、高通、英特爾等全球光刻機(jī)巨頭50%以上的營收。
隨著國產(chǎn)半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展，我國光刻技術(shù)也在繼續(xù)演進(jìn)，以滿足不斷增長的芯片需求?！吨袊乱淮斯ぶ悄馨l(fā)展規(guī)劃》提到，“我國在光刻機(jī)領(lǐng)域的總體技術(shù)正在逐漸跟上，在一些重要領(lǐng)域，我們甚至可以自主制造一些核心技術(shù)。”
光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈主要包括上游設(shè)備及配套材料、中游光刻機(jī)系統(tǒng)集成和生產(chǎn)及下游光刻機(jī)應(yīng)用三大環(huán)節(jié)。目前，國內(nèi)從事光刻機(jī)相關(guān)業(yè)務(wù)的上市公司包括賽微電子、大族激光、炬光科技、張江高科、聯(lián)合光電、晶瑞電材、英唐智控、美迪凱、同興達(dá)等。
雖然就目前而言，我國在光刻機(jī)領(lǐng)域的研發(fā)實(shí)力、人才儲(chǔ)備等方面仍與國外存在著差距，但在國產(chǎn)光刻機(jī)研發(fā)上我國一刻都沒有止步。相信在不久的將來，隨著我國自主研發(fā)技術(shù)的不斷突破，國產(chǎn)光刻機(jī)將迎來屬于它的“高光時(shí)刻”。